Característica

131313(1)(1)

Semicera Semiconductor Technology Co., Ltd., con sede en Ningbo, provincia de Zhejiang, China, se estableció en enero de 2018. Nuestra misión es dar forma al futuro a través de materiales y nuestra visión es convertirnos en una empresa líder en nuevos materiales con tecnologías centrales en el campo semiconductor. Nos especializamos en la investigación y el desarrollo de tecnologías avanzadas como recubrimientos de SiC, recubrimientos Tac, recubrimientos de carbono pirolítico, CVD SiC (SiC sólido) y carburo de silicio recristalizado, que son fundamentales para la industria de semiconductores. También nos centramos en la producción a gran escala de productos materiales de alta pureza.

Honor y Certificación

Instalaciones y Laboratorios

Capítulo 5-44

Horno de alta temperatura CVD

Sustratos de revestimiento para epitaxia de chips LED, epitaxia de obleas de silicio, sustratos y componentes de epitaxia de semiconductores de tercera generación, recubrimientos de TaC y más.

Horno de purificación al vacío

Purificación de elementos a base de carbono como grafito, fieltro de carbono, polvo de grafito y compuestos de carbono.

Horno de grafitización horizontal

Empleado principalmente para el tratamiento a alta temperatura de materiales de carbono, como sinterización y grafitización de materiales de carbono, grafitización de películas de PI, sinterización de materiales conductores térmicos, sinterización y grafitización de cuerdas de fibra de carbono, grafitización de filamentos de fibra de carbono, purificación de polvo de grafito, y otros materiales adecuados para la grafitización en entornos de carbono.

maquinas cnc

foto 60
foto 59

Equipo de prueba

foto 58

Instrumento de cuatro sondas

foto 61

Equipos de verificación y desarrollo de materiales de revestimiento

Foto 51

Instrumento de prueba CTE

Foto 53

GDMS

Capítulo 55(1)

SIMS

Introducción a la cadena industrial de epitaxia de chips semiconductores

未标题-1

Epitaxia del chip IC

Semiconductores de tercera generación