Semicera Semiconductor Technology Co., Ltd., con sede en Ningbo, provincia de Zhejiang, China, se estableció en enero de 2018. Nuestra misión es dar forma al futuro a través de materiales y nuestra visión es convertirnos en una empresa líder en nuevos materiales con tecnologías centrales en el campo semiconductor.Nos especializamos en la investigación y el desarrollo de tecnologías avanzadas como recubrimientos de SiC, recubrimientos Tac, recubrimientos de carbono pirolítico, CVD SiC (SiC sólido) y carburo de silicio recristalizado, que son fundamentales para la industria de semiconductores.También nos centramos en la producción a gran escala de productos materiales de alta pureza.

Honor y Certificación

Instalaciones y Laboratorios

Horno de alta temperatura CVD

Sustratos de revestimiento para epitaxia de chips LED, epitaxia de obleas de silicio, sustratos y componentes de epitaxia de semiconductores de tercera generación, recubrimientos de TaC y más.

Horno de purificación al vacío

Purificación de elementos a base de carbono como grafito, fieltro de carbono, polvo de grafito y compuestos de carbono.

Horno de grafitización horizontal

Empleado principalmente para el tratamiento a alta temperatura de materiales de carbono, como sinterización y grafitización de materiales de carbono, grafitización de películas de PI, sinterización de materiales conductores térmicos, sinterización y grafitización de cuerdas de fibra de carbono, grafitización de filamentos de fibra de carbono, purificación de polvo de grafito, y otros materiales adecuados para la grafitización en entornos de carbono.