-
¿Qué es un portador de obleas RTP?
Comprensión de su papel en la fabricación de semiconductores Exploración del papel esencial de los portadores de obleas RTP en el procesamiento avanzado de semiconductores En el mundo de la fabricación de semiconductores, la precisión y el control son cruciales para producir dispositivos de alta calidad que alimentan la electrónica moderna. Uno de los...Leer más -
¿Qué es un portador de Epi?
Explorando su papel crucial en el procesamiento de obleas epitaxiales Comprensión de la importancia de los portadores Epi en la fabricación avanzada de semiconductores En la industria de los semiconductores, la producción de obleas epitaxiales (epi) de alta calidad es un paso crítico en la fabricación de dispositivos como transistores, diodos...Leer más -
Proceso y equipo de semiconductores (1/7) – Proceso de fabricación de circuitos integrados
1.Acerca de los Circuitos Integrados 1.1 El concepto y nacimiento de los circuitos integrados Circuito Integrado (IC): se refiere a un dispositivo que combina dispositivos activos como transistores y diodos con componentes pasivos como resistencias y condensadores a través de una serie de técnicas de procesamiento específicas...Leer más -
¿Qué es un portador Epi Pan?
La industria de los semiconductores depende de equipos altamente especializados para producir dispositivos electrónicos de alta calidad. Uno de esos componentes críticos en el proceso de crecimiento epitaxial es el portador epi pan. Este equipo desempeña un papel fundamental en la deposición de capas epitaxiales en obleas semiconductoras, asegura...Leer más -
¿Qué es el susceptor MOCVD?
La deposición química de vapor metal-orgánico (MOCVD) es un proceso crucial en la industria de los semiconductores, donde se depositan películas delgadas de alta calidad sobre sustratos. Un componente clave del proceso MOCVD es el susceptor, un elemento vital que desempeña un papel fundamental para garantizar la uniformidad y la calidad...Leer más -
¿Qué es el recubrimiento de SiC?
Los recubrimientos de carburo de silicio (SiC) se están volviendo rápidamente esenciales en diversas aplicaciones de alto rendimiento debido a sus notables propiedades físicas y químicas. Aplicados mediante técnicas como la deposición física o química de vapor (CVD), o métodos de pulverización, los recubrimientos de SiC transforman la superficie pro...Leer más -
¿Qué es el portador de obleas MOCVD?
En el campo de la fabricación de semiconductores, la tecnología MOCVD (deposición química de vapor de metales orgánicos) se está convirtiendo rápidamente en un proceso clave, siendo el MOCVD Wafer Carrier uno de sus componentes principales. Los avances en MOCVD Wafer Carrier no solo se reflejan en su proceso de fabricación sino...Leer más -
¿Qué es el carburo de tantalio?
El carburo de tantalio (TaC) es un compuesto binario de tantalio y carbono con la fórmula química TaC x, donde x suele variar entre 0,4 y 1. Son materiales cerámicos refractarios, extremadamente duros y quebradizos, con conductividad metálica. Son polvos de color marrón grisáceo y somos nosotros...Leer más -
¿Qué es el carburo de tantalio?
El carburo de tantalio (TaC) es un material cerámico de temperatura ultraalta con resistencia a altas temperaturas, alta densidad y alta compacidad; alta pureza, contenido de impurezas <5PPM; e inercia química al amoníaco y al hidrógeno a altas temperaturas, y buena estabilidad térmica. El llamado ultra alto ...Leer más -
¿Qué es la epitaxia?
La mayoría de los ingenieros no están familiarizados con la epitaxia, que desempeña un papel importante en la fabricación de dispositivos semiconductores. La epitaxia se puede utilizar en diferentes productos de chips, y diferentes productos tienen diferentes tipos de epitaxia, incluida la epitaxia de Si, la epitaxia de SiC, la epitaxia de GaN, etc. ¿Qué es la epitaxia? La epitaxia es...Leer más -
¿Cuáles son los parámetros importantes del SiC?
El carburo de silicio (SiC) es un importante material semiconductor de banda prohibida ampliamente utilizado en dispositivos electrónicos de alta potencia y alta frecuencia. Los siguientes son algunos parámetros clave de las obleas de carburo de silicio y sus explicaciones detalladas: Parámetros de red: asegúrese de que...Leer más -
¿Por qué es necesario laminar silicio monocristalino?
Laminación se refiere al proceso de rectificar el diámetro exterior de una varilla de cristal único de silicio en una varilla de cristal único del diámetro requerido utilizando una muela abrasiva de diamante y pulir una superficie de referencia de borde plano o una ranura de posicionamiento de la varilla de cristal único. La superficie del diámetro exterior...Leer más