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Engranaje de rueda con revestimiento de SiC: mejora de la eficiencia en la fabricación de semiconductores
En el campo de rápida evolución de la fabricación de semiconductores, la precisión y la durabilidad de los equipos son fundamentales para lograr altos rendimientos y calidad. Uno de los componentes clave que garantiza esto es el engranaje de rueda de recubrimiento de SiC, diseñado para mejorar la eficiencia de los procesos...Leer más -
¿Qué es un tubo de protección de cuarzo? | semicera
El tubo de protección de cuarzo es un componente esencial en diversas aplicaciones industriales, conocido por su excelente desempeño en condiciones extremas. En Semicera producimos tubos de protección de cuarzo diseñados para una alta durabilidad y confiabilidad en ambientes hostiles. Con carácter sobresaliente...Leer más -
¿Qué es el tubo de proceso recubierto de CVD? | semicera
Un tubo de proceso recubierto de CVD es un componente crítico utilizado en diversos entornos de fabricación de alta temperatura y alta pureza, como la producción de semiconductores y fotovoltaica. En Semicera, nos especializamos en la producción de tubos de proceso con revestimiento CVD de alta calidad que ofrecen super...Leer más -
¿Qué es el grafito isostático? | semicera
El grafito isostático, también conocido como grafito formado isostáticamente, se refiere a un método en el que una mezcla de materias primas se comprime en bloques rectangulares o redondos en un sistema llamado prensado isostático en frío (CIP). El prensado isostático en frío es un método de procesamiento de materiales i...Leer más -
¿Qué es el carburo de tantalio? | semicera
El carburo de tantalio es un material cerámico extremadamente duro conocido por sus propiedades excepcionales, particularmente en ambientes de alta temperatura. En Semicera, nos especializamos en proporcionar carburo de tantalio de alta calidad que ofrece un rendimiento superior en industrias que requieren materiales avanzados para aplicaciones extremas...Leer más -
¿Qué es un tubo central de horno de cuarzo? | semicera
Un tubo central de horno de cuarzo es un componente esencial en diversos entornos de procesamiento de alta temperatura, ampliamente utilizado en industrias como la fabricación de semiconductores, la metalurgia y el procesamiento químico. En Semicera, nos especializamos en la producción de tubos centrales para hornos de cuarzo de alta calidad que son conocidos...Leer más -
Proceso de grabado en seco
El proceso de grabado en seco generalmente consta de cuatro estados básicos: antes del grabado, grabado parcial, solo grabado y sobregrabado. Las características principales son la tasa de grabado, la selectividad, la dimensión crítica, la uniformidad y la detección del punto final. Figura 1 Antes del grabado Figura 2 Grabado parcial Figura...Leer más -
Paleta de SiC en la fabricación de semiconductores
En el ámbito de la fabricación de semiconductores, la paleta de SiC desempeña un papel crucial, especialmente en el proceso de crecimiento epitaxial. Como componente clave utilizado en los sistemas MOCVD (deposición química de vapor de metales orgánicos), las paletas de SiC están diseñadas para soportar altas temperaturas y...Leer más -
¿Qué es la paleta Wafer? | semicera
Una paleta de oblea es un componente crucial que se utiliza en las industrias de semiconductores y fotovoltaica para manipular obleas durante procesos de alta temperatura. En Semicera, estamos orgullosos de nuestras capacidades avanzadas para producir paletas de oblea de alta calidad que cumplan con las rigurosas demandas de...Leer más -
Procesos y equipos de semiconductores(7/7) - Procesos y equipos de crecimiento de películas delgadas
1. Introducción El proceso de unir sustancias (materias primas) a la superficie de los materiales del sustrato mediante métodos físicos o químicos se denomina crecimiento de película delgada. Según diferentes principios de funcionamiento, la deposición de película delgada de circuito integrado se puede dividir en: -Deposición física de vapor ( PAG...Leer más -
Proceso y equipo de semiconductores (6/7) - Proceso y equipo de implantación de iones
1. Introducción La implantación de iones es uno de los principales procesos en la fabricación de circuitos integrados. Se refiere al proceso de acelerar un haz de iones hasta una cierta energía (generalmente en el rango de keV a MeV) y luego inyectarlo en la superficie de un material sólido para cambiar las propiedades físicas...Leer más -
Procesos y equipos de semiconductores(5/7)- Procesos y equipos de grabado
Una introducción El grabado en el proceso de fabricación de circuitos integrados se divide en: -Grabado en húmedo; -Grabado en seco. Al principio, el grabado húmedo se utilizaba ampliamente, pero debido a sus limitaciones en el control del ancho de la línea y la direccionalidad del grabado, la mayoría de los procesos después de 3 μm utilizan el grabado seco. El grabado húmedo es...Leer más