Sustrato de oblea pulido de doble cara HPSI SiC semiaislante de alta pureza de 4 pulgadas

Breve descripción:

Los sustratos de oblea pulidos de doble cara de SiC semiaislante de alta pureza (HPSI) de 4 pulgadas de Semicera están diseñados con precisión para un rendimiento electrónico superior. Estas obleas proporcionan una excelente conductividad térmica y aislamiento eléctrico, ideales para aplicaciones de semiconductores avanzadas. Confíe en Semicera por su calidad e innovación incomparables en tecnología de obleas.


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Los sustratos de oblea pulidos de doble cara de SiC semiaislantes de alta pureza (HPSI) de 4 pulgadas de Semicera están diseñados para satisfacer las exigentes demandas de la industria de semiconductores. Estos sustratos están diseñados con una planitud y pureza excepcionales, lo que ofrece una plataforma óptima para dispositivos electrónicos de vanguardia.

Estas obleas HPSI SiC se distinguen por sus propiedades superiores de conductividad térmica y aislamiento eléctrico, lo que las convierte en una excelente opción para aplicaciones de alta frecuencia y alta potencia. El proceso de pulido de doble cara garantiza una rugosidad superficial mínima, lo cual es crucial para mejorar el rendimiento y la longevidad del dispositivo.

La alta pureza de las obleas de SiC de Semicera minimiza los defectos y las impurezas, lo que conduce a mayores tasas de rendimiento y confiabilidad del dispositivo. Estos sustratos son adecuados para una amplia gama de aplicaciones, incluidos dispositivos de microondas, electrónica de potencia y tecnologías LED, donde la precisión y la durabilidad son esenciales.

Centrándose en la innovación y la calidad, Semicera utiliza técnicas de fabricación avanzadas para producir obleas que cumplen con los estrictos requisitos de la electrónica moderna. El pulido de doble cara no sólo mejora la resistencia mecánica sino que también facilita una mejor integración con otros materiales semiconductores.

Al elegir los sustratos de oblea pulidos de doble cara HPSI SiC semiaislantes de alta pureza de 4 pulgadas de Semicera, los fabricantes pueden aprovechar los beneficios de una gestión térmica y un aislamiento eléctrico mejorados, allanando el camino para el desarrollo de dispositivos electrónicos más eficientes y potentes. Semicera continúa liderando la industria con su compromiso con la calidad y el avance tecnológico.

Elementos

Producción

Investigación

Ficticio

Parámetros de cristal

politipo

4H

Error de orientación de la superficie

<11-20 >4±0,15°

Parámetros eléctricos

dopante

Nitrógeno tipo n

Resistividad

0.015-0.025ohm·cm

Parámetros mecánicos

Diámetro

150,0 ± 0,2 mm

Espesor

350±25 micras

Orientación plana primaria

[1-100]±5°

Longitud plana primaria

47,5 ± 1,5 mm

piso secundario

Ninguno

televisión

≤5 micras

≤10 micras

≤15 micras

TVL

≤3 micras(5mm*5mm)

≤5 micras(5mm*5mm)

≤10 micras(5mm*5mm)

Arco

-15 μm ~ 15 μm

-35 μm ~ 35 μm

-45 μm ~ 45 μm

Urdimbre

≤35 micras

≤45 micras

≤55 micras

Rugosidad frontal (Si-face) (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Estructura

Densidad de microtubos

<1 unidad/cm2

<10 c/cm2

<15 c/cm2

Impurezas metálicas

≤5E10átomos/cm2

NA

TLP

≤1500 unidades/cm2

≤3000 unidades/cm2

NA

TSD

≤500 unidades/cm2

≤1000 unidades/cm2

NA

Calidad frontal

Frente

Si

Acabado superficial

CMP de cara Si

Partículas

≤60ea/oblea (tamaño≥0,3μm)

NA

Arañazos

≤5ea/mm. Longitud acumulada ≤Diámetro

Longitud acumulada≤2*Diámetro

NA

Piel de naranja/huevos/manchas/estrías/grietas/contaminación

Ninguno

NA

Descantillados/hendiduras/fracturas/placas hexagonales

Ninguno

Áreas politipo

Ninguno

Área acumulada≤20%

Área acumulada≤30%

Marcado láser frontal

Ninguno

Calidad trasera

Acabado trasero

CMP cara C

Arañazos

≤5ea/mm, longitud acumulada≤2*Diámetro

NA

Defectos posteriores (descantillados/hendiduras en los bordes)

Ninguno

Rugosidad de la espalda

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Marcado láser trasero

1 mm (desde el borde superior)

Borde

Borde

Chaflán

Embalaje

Embalaje

Epi-ready con envasado al vacío

Envasado de casetes de obleas múltiples

*Notas: "NA" significa sin solicitud. Los artículos no mencionados pueden referirse a SEMI-STD.

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Obleas de SiC

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