Las piezas sólidas de CARBURO DE SILICIO CVD son reconocidas como la opción principal para anillos y bases RTP/EPI y piezas de cavidades de grabado por plasma que funcionan a las altas temperaturas de funcionamiento requeridas por el sistema (>1500 ℃), los requisitos de pureza son particularmente altos (>99,9995 %) y el rendimiento es especialmente bueno cuando la resistencia a los productos químicos es particularmente alta. Estos materiales no contienen fases secundarias en el borde del grano, por lo que sus componentes producen menos partículas que otros materiales. Además, estos componentes se pueden limpiar utilizando HF/HCl caliente con poca degradación, lo que da como resultado menos partículas y una vida útil más larga.
