Soluciones versátiles de fieltro duro de grafito de Semicera para diversos procesos de fabricación de semiconductores

Breve descripción:

Presentamos las versátiles soluciones de fieltro duro de grafito de Semicera diseñadas para una amplia gama de procesos de fabricación de semiconductores. Con su excepcional versatilidad y confiabilidad, nuestros productos ofrecen un rendimiento constante, lo que permite operaciones eficientes y precisas en diversos entornos de producción.

 


Detalle del producto

Etiquetas de producto

Detalles del producto

Nombre del producto

Fieltro de grafito

Composición química

fibra de carbono

densidad aparente

0,12-0,14 g/cm3

Contenido de carbono

>=99%

Resistencia a la tracción

0,14 MPa

Conductividad térmica (1150 ℃)

0,08 ~ 0,14 W/mk

Ceniza

<=0,005%

Estrés aplastante

8-10N/cm

Espesor

1-10 mm

Temperatura de procesamiento

2500(℃)

Densidad de volumen (g/cm3): 0,22-0,28
Resistencia a la tracción (Mpa): 2,5 (deformación 5%)
Conductividad térmica (W/mk): 0,15-0,25(25) 0,40-0,45(1400)
Resistencia específica (Ohm.cm): 0,18-0,22
Contenido de carbono (%): ≥99
Contenido de cenizas (%): ≤0,6
Absorción de humedad (%): ≤1,6
Escala de purificación: alta pureza
Temperatura de procesamiento: 1450-2000

Campos de aplicaciones:
•Hornos de vacío
•Hornos de gas inerte
•Tratamiento térmico(endurecimiento, carbonización, soldadura fuerte, etc.)
•Producción de fibra de carbono
•Producción de metales duros
•Aplicaciones de sinterización
•Producción técnica de cerámica.
• Inercia CVD/PVD

Tamaño disponible:
Placa: 1500*1800 (máx.) Espesor 20-200 mm
Tambor redondo: 1500*2000 (máx.) Espesores 20-150 mm
Tambor cuadrado: 1500*1500*2000 (máx.) Espesor 60-120 mm
Rango de temperatura aplicable: 1250-2600

Fieltro rígido (2)
Fieltro rígido (1)
sdfs

Lugar de trabajo Semicera Lugar de trabajo semicera 2 maquina de equipo Procesamiento CNN, limpieza química, recubrimiento CVD Nuestro servicio


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