Diseñado para aplicaciones de epitaxia en fase líquida (LPE), el reactor de menisco LPE de Semicera presenta un diseño innovador que permite una eficienciaRecubrimientos CVD SiCy apoya una variedad de procesos de epitaxia, incluida la epitaxia ASM yMOCVD. La construcción robusta y la ingeniería de precisión del reactor de menisco LPE garantizan una gestión térmica eficiente y una deposición uniforme.
Semicera se compromete a brindar soluciones de alto rendimiento a la industria de semiconductores. NuestroReactor de menisco LPEestá fabricado con materiales duraderos e ingeniería de precisión para garantizar confiabilidad y longevidad. Las características únicas de esta cámara permiten una excelente gestión térmica y una deposición uniforme, lo que la convierte en un gran activo para cualquier laboratorio o entorno de producción.
Elija el reactor de menisco LPE de Semicera para mejorar su epitaxialproceso MOCVDy lograr excelentes resultados en la deposición de películas delgadas. Nuestra dedicación a la calidad y la innovación garantiza que usted reciba un producto que cumpla con los más altos estándares de la industria.
-
Barril de reactor epitaxial recubierto de SiC
-
Susceptor planetario de deposición de capa atómica ALD
-
Bandeja de rodamiento de carburo de silicio con grabado LED, bandeja ICP...
-
Portador de procesamiento PSS para obleas semiconductoras...
-
Silicio monocristalino recubierto de SiC semiconductor...
-
Susceptor de grafito con revestimiento de carburo de silicio...