semicerase complace en ofrecer laCasete PFA, una opción premium para el manejo de obleas en entornos donde la resistencia química y la durabilidad son primordiales. Elaborado con material perfluoroalcoxi (PFA) de alta pureza, este casete está diseñado para soportar las condiciones más exigentes en la fabricación de semiconductores, lo que garantiza la seguridad y la integridad de sus obleas.
Resistencia química inigualableElCasete PFAestá diseñado para proporcionar una resistencia superior a una amplia gama de productos químicos, lo que lo convierte en la opción perfecta para procesos que involucran ácidos agresivos, solventes y otros productos químicos agresivos. Esta robusta resistencia química garantiza que el casete permanezca intacto y funcional incluso en los ambientes más corrosivos, extendiendo así su vida útil y reduciendo la necesidad de reemplazos frecuentes.
Construcción de alta purezaSemicerasCasete PFAestá fabricado con material PFA ultrapuro, que es fundamental para prevenir la contaminación durante el procesamiento de obleas. Esta construcción de alta pureza minimiza el riesgo de generación de partículas y lixiviación química, lo que garantiza que sus obleas estén protegidas de impurezas que podrían comprometer su calidad.
Mayor durabilidad y rendimientoDiseñado para mayor durabilidad, elCasete PFAmantiene su integridad estructural bajo temperaturas extremas y condiciones de procesamiento rigurosas. Ya sea expuesto a altas temperaturas o sometido a manipulación repetida, este casete conserva su forma y rendimiento, ofreciendo confiabilidad a largo plazo en entornos de fabricación exigentes.
Ingeniería de precisión para un manejo seguroElCasete Semicera PFApresenta una ingeniería precisa que garantiza un manejo seguro y estable de las obleas. Cada ranura está cuidadosamente diseñada para mantener las obleas en su lugar de forma segura, evitando cualquier movimiento o desplazamiento que pueda provocar daños. Esta ingeniería de precisión respalda la colocación consistente y precisa de las obleas, lo que contribuye a la eficiencia general del proceso.
Aplicación versátil en todos los procesosGracias a sus propiedades materiales superiores, elCasete PFAes lo suficientemente versátil como para usarse en varias etapas de la fabricación de semiconductores. Es particularmente adecuado para grabado húmedo, deposición química de vapor (CVD) y otros procesos que involucran ambientes químicos hostiles. Su adaptabilidad lo convierte en una herramienta esencial para mantener la integridad del proceso y la calidad de las obleas.
Compromiso con la Calidad y la InnovaciónEn Semicera, estamos comprometidos a brindar productos que cumplan con los más altos estándares de la industria. ElCasete PFAejemplifica este compromiso, ofreciendo una solución confiable que se integra perfectamente en sus procesos de fabricación. Cada casete se somete a un estricto control de calidad para garantizar que cumpla con nuestros rigurosos criterios de rendimiento y brinde la excelencia que espera de Semicera.
Elementos | Producción | Investigación | Ficticio |
Parámetros de cristal | |||
politipo | 4H | ||
Error de orientación de la superficie | <11-20 >4±0,15° | ||
Parámetros eléctricos | |||
dopante | Nitrógeno tipo n | ||
Resistividad | 0.015-0.025ohm·cm | ||
Parámetros mecánicos | |||
Diámetro | 150,0 ± 0,2 mm | ||
Espesor | 350±25 micras | ||
Orientación plana primaria | [1-100]±5° | ||
Longitud plana primaria | 47,5 ± 1,5 mm | ||
piso secundario | Ninguno | ||
televisión | ≤5 micras | ≤10 micras | ≤15 micras |
TVL | ≤3 micras(5mm*5mm) | ≤5 micras(5mm*5mm) | ≤10 micras(5mm*5mm) |
Arco | -15 μm ~ 15 μm | -35 μm ~ 35 μm | -45 μm ~ 45 μm |
Urdimbre | ≤35 micras | ≤45 micras | ≤55 micras |
Rugosidad frontal (Si-face) (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Estructura | |||
Densidad de microtubos | <1 unidad/cm2 | <10 c/cm2 | <15 c/cm2 |
Impurezas metálicas | ≤5E10átomos/cm2 | NA | |
TLP | ≤1500 unidades/cm2 | ≤3000 unidades/cm2 | NA |
TSD | ≤500 unidades/cm2 | ≤1000 unidades/cm2 | NA |
Calidad frontal | |||
Frente | Si | ||
Acabado superficial | CMP de cara Si | ||
Partículas | ≤60ea/oblea (tamaño≥0,3μm) | NA | |
Arañazos | ≤5ea/mm. Longitud acumulada ≤Diámetro | Longitud acumulada≤2*Diámetro | NA |
Piel de naranja/huevos/manchas/estrías/grietas/contaminación | Ninguno | NA | |
Descantillados/hendiduras/fracturas/placas hexagonales | Ninguno | ||
Áreas politipo | Ninguno | Área acumulada≤20% | Área acumulada≤30% |
Marcado láser frontal | Ninguno | ||
Calidad trasera | |||
Acabado trasero | CMP cara C | ||
Arañazos | ≤5ea/mm, longitud acumulada≤2*Diámetro | NA | |
Defectos posteriores (descantillados/hendiduras en los bordes) | Ninguno | ||
Rugosidad de la espalda | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Marcado láser trasero | 1 mm (desde el borde superior) | ||
Borde | |||
Borde | Chaflán | ||
Embalaje | |||
Embalaje | Epi-ready con envasado al vacío Envasado de casetes de obleas múltiples | ||
*Notas: "NA" significa sin solicitud. Los artículos no mencionados pueden referirse a SEMI-STD. |