Proceso de recubrimiento de SiC para base de grafito Portadores de grafito recubierto de SiC

Breve descripción:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. es un proveedor líder de cerámicas semiconductoras avanzadas. Nuestros productos principales incluyen: discos grabados de carburo de silicio, remolques para barcos de carburo de silicio, barcos de obleas de carburo de silicio (PV y semiconductores), tubos para hornos de carburo de silicio, paletas voladizas de carburo de silicio, mandril de carburo de silicio, vigas de carburo de silicio, así como recubrimientos CVD SiC y Recubrimientos de TaC.
Los productos se utilizan principalmente en las industrias de semiconductores y fotovoltaica, como equipos de crecimiento de cristales, epitaxia, grabado, embalaje, recubrimiento y hornos de difusión.

 

Detalle del producto

Etiquetas de producto

Descripción

Mantenemos tolerancias muy estrechas al aplicar elRecubrimiento de SiC, utilizando mecanizado de alta precisión para garantizar un perfil de susceptor uniforme. También producimos materiales con propiedades de resistencia eléctrica ideales para su uso en sistemas de calentamiento inductivo. Todos los componentes terminados vienen con un certificado de pureza y cumplimiento dimensional.

Nuestra empresa proporcionaRecubrimiento de SiCServicios de proceso por método CVD en la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos, formando una capa protectora de SIC. El SIC formado está firmemente adherido a la base de grafito, dándole a la base de grafito propiedades especiales, haciendo así que la superficie del grafito sea compacta, libre de porosidad, resistente a altas temperaturas, a la corrosión y a la oxidación.

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El proceso CVD ofrece una pureza y una densidad teórica extremadamente altas deRecubrimiento de SiCsin porosidad. Es más, como el carburo de silicio es muy duro, se puede pulir hasta obtener una superficie similar a un espejo.Recubrimiento CVD de carburo de silicio (SiC)entregó varias ventajas, incluida una superficie de pureza ultraalta y una durabilidad extremadamente alta. Como los productos recubiertos tienen un gran rendimiento en circunstancias de alto vacío y alta temperatura, son ideales para aplicaciones en la industria de semiconductores y otros entornos ultralimpios. También ofrecemos productos de grafito pirolítico (PG).

 

Características principales

1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:
La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura alcanza los 1600 C.
2. Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor en condiciones de cloración a alta temperatura.
3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.
4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

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Especificaciones principales de los recubrimientos CVD-SIC

SiC-CVD
Densidad (g/cc) 3.21
Resistencia a la flexión (Mpa) 470
Expansión térmica (10-6/K) 4
Conductividad térmica (W/mK) 300

Solicitud

El recubrimiento de carburo de silicio CVD ya se ha aplicado en industrias de semiconductores, como bandeja MOCVD, RTP y cámara de grabado de óxido, ya que el nitruro de silicio tiene una gran resistencia al choque térmico y puede soportar plasma de alta energía.
-El carburo de silicio se usa ampliamente en semiconductores y recubrimientos.

Solicitud

Capacidad de suministro:
10000 pedazos/pedazos por mes
Embalaje y entrega:
Embalaje: embalaje estándar y resistente
Bolsa de polietileno + Caja + Cartón + Paleta
Puerto:
Ningbo/Shenzhen/Shanghái
Plazo de entrega:

Cantidad (piezas) 1 – 1000 >1000
Est. Tiempo (días) 30 Para ser negociado
Lugar de trabajo Semicera
Lugar de trabajo semicera 2
maquina de equipo
Procesamiento CNN, limpieza química, recubrimiento CVD
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