Disco de carburo de silicio para MOCVD

ElDisco de carburo de siliciopara MOCVD de semicera, una solución de alto rendimiento diseñada para una eficiencia óptima en los procesos de crecimiento epitaxial. El disco de carburo de silicio semicera ofrece estabilidad térmica y precisión excepcionales, lo que lo convierte en un componente esencial en los procesos de epitaxia de Si y epitaxia de SiC. Diseñado para soportar las altas temperaturas y las exigentes condiciones de las aplicaciones MOCVD, este disco garantiza un rendimiento confiable y una larga vida útil.

Nuestro disco de carburo de silicio es compatible con una amplia gama de configuraciones MOCVD, incluidasSusceptor MOCVDy admite procesos avanzados como GaN en SiC Epitaxy. También se integra perfectamente con los sistemas PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier y RTP Carrier, mejorando la precisión y la calidad de su producción de fabricación. Ya sea que se utilice para la producción de silicio monocristalino o aplicaciones de susceptor epitaxial LED, este disco garantiza resultados excepcionales.

Además, el disco de carburo de silicio de semicera se adapta a varias configuraciones, incluidas las configuraciones de Susceptor Pancake y Susceptor Barrel, lo que ofrece flexibilidad en diversos entornos de fabricación. La inclusión de Piezas Fotovoltaicas amplía aún más su aplicación a las industrias de energía solar, convirtiéndolas en un componente versátil e indispensable para las modernasepitaxialcrecimiento y fabricación de semiconductores.