Nuestro LPCVD(Deposición de vapor químico a baja presión)Barco de carburo de silicioestá diseñado con tecnología de punta, diseñado para el proceso de fabricación de semiconductores de alta temperatura. Esta alta calidadbarco de carburo de silicioOfrece rendimiento y confiabilidad excepcionales en condiciones extremas, lo que lo convierte en una opción ideal para la fabricación de semiconductores y otros procesos de alta temperatura.
Estabilidad a altas temperaturas:Nuestrobarco de carburo de siliciosoporta temperaturas de hasta1700°C, asegurando estabilidad y rendimiento en operaciones continuas a alta temperatura.
Inercia química:Con una excelente estabilidad química, resiste la corrosión de ácidos, bases y otros productos químicos corrosivos, lo que garantiza durabilidad durante el uso a largo plazo.
Conductividad térmica superior:La alta conductividad térmica garantiza una distribución uniforme de la temperatura en toda la embarcación, lo que contribuye a mejorar la calidad y consistencia del producto.
Fuerza y resistencia al desgaste:La excepcional resistencia mecánica y al desgaste permiten un uso continuo sin daños, lo que reduce la frecuencia y el costo de reemplazo.
Aplicaciones:
Adecuado para diversos procesos de alta temperatura, incluidos, entre otros, la fabricación de semiconductores, la producción de células solares y las operaciones de hornos de alta temperatura. Su alto rendimiento y confiabilidad lo convierten en la opción ideal para estas aplicaciones exigentes.
¿Por qué elegir?Nuestro LPCVD¿Barco de carburo de silicio?
Estamos comprometidos a ofrecer los más altos estándares de productos y servicios.Nuestro LPCVDBarco de carburo de siliciono solo proporciona un rendimiento y una durabilidad excepcionales, sino que también ayuda a optimizar la eficiencia y la calidad de la producción, reduciendo los costos operativos. Elegirnos significa seleccionar un socio confiable para impulsar su negocio.
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