El soporte de oblea de carburo de silicio no solo se puede utilizar para portador RTP, susceptor epitaxial LED y susceptor de barril, sino que también admite una carga estable en el proceso de fabricación de silicio monocristalino. Este producto también funciona bien en piezas fotovoltaicas y susceptores Pancake, y es particularmente adecuado para su uso en el proceso de GaN en epitaxia de SiC, lo que mejora eficazmente la eficiencia de la producción y reduce los defectos.
El soporte para oblea de carburo de silicio de Semicera utiliza materiales de carburo de silicio de alta calidad, que no solo tienen una excelente resistencia a altas temperaturas, sino que también pueden permanecer estables en ambientes corrosivos. Ya sea en ICP Etching Carrier u otros procesos complejos de epitaxia y grabado, este producto puede garantizar una carga estable de obleas, reducir el estrés y optimizar la calidad de fabricación.
El soporte para obleas de carburo de silicio de Semicera está diseñado para procesos complejos de epitaxia y grabado. Con su excelente rendimiento y alta durabilidad, se ha convertido en una opción ideal en la fabricación de semiconductores. Ya sea que brinde soporte a Si Epitaxy o SiC Epitaxy, semicera se compromete a brindar a los clientes productos y servicios de primera clase.
Excelente resistencia al calor y a la corrosión. Equipos de fabricación de semiconductores ampliamente aplicables.
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