Epitaxia LED azul/verde

Breve descripción:

Nuestra empresa brinda servicios de proceso de recubrimiento de SiC mediante el método CVD en la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos. formando una capa protectora de SiC.

 

Detalle del producto

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La epitaxia LED azul/verde de semicera ofrece soluciones de vanguardia para la fabricación de LED de alto rendimiento. Diseñada para respaldar procesos avanzados de crecimiento epitaxial, la tecnología de epitaxia LED azul/verde de Semicera mejora la eficiencia y la precisión en la producción de LED azules y verdes, fundamentales para diversas aplicaciones optoelectrónicas. Utilizando Si Epitaxy y SiC Epitaxy de última generación, esta solución garantiza una excelente calidad y durabilidad.

En el proceso de fabricación, MOCVD Susceptor desempeña un papel crucial, junto con componentes como PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier y RTP Carrier, que optimizan el entorno de crecimiento epitaxial. La epitaxia LED azul/verde de Semicera está diseñada para brindar soporte estable para el susceptor epitaxial LED, el susceptor de barril y el silicio monocristalino, lo que garantiza la producción de resultados consistentes y de alta calidad.

Este proceso de epitaxia es vital para la creación de piezas fotovoltaicas y admite aplicaciones como GaN en epitaxia de SiC, lo que mejora la eficiencia general de los semiconductores. Ya sea en una configuración Pancake Susceptor o utilizadas en otras configuraciones avanzadas, las soluciones de epitaxia LED azul/verde de Semicera ofrecen un rendimiento confiable, lo que ayuda a los fabricantes a satisfacer la creciente demanda de componentes LED de alta calidad.

Características principales:

1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:

La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura alcanza los 1600 C.

2. Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor en condiciones de cloración a alta temperatura.

3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.

4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

 Especificaciones principales deRecubrimiento CVD-SIC

Propiedades de SiC-CVD

Estructura cristalina Fase β de la FCC
Densidad gramos/cm³ 3.21
Dureza Dureza Vickers 2500
Tamaño de grano µm 2~10
Pureza química % 99.99995
Capacidad calorífica J·kg-1·K-1 640
Temperatura de sublimación 2700
Fuerza flexural MPa (RT 4 puntos) 415
Módulo de Young Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃) 430
Expansión Térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
Conductividad térmica (W/mK) 300

 

 
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