Bandejas de clavijas de SiC para procesos de grabado ICP en la industria LED

Breve descripción:

El carburo de silicio es un nuevo tipo de cerámica con un alto costo y excelentes propiedades de material.Debido a características como alta resistencia y dureza, resistencia a altas temperaturas, gran conductividad térmica y resistencia a la corrosión química, el carburo de silicio puede resistir casi todos los medios químicos.Por lo tanto, el SiC se utiliza ampliamente en la minería petrolera, la industria química, la maquinaria y el espacio aéreo, incluso la energía nuclear y el ejército tienen demandas especiales sobre el SIC.

Podemos diseñar y fabricar de acuerdo con sus dimensiones específicas con buena calidad y plazos de entrega razonables.


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Descripción del Producto

Nuestra empresa brinda servicios de proceso de recubrimiento de SiC mediante el método CVD en la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos. formando una capa protectora SIC.

Principales características:

1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:

La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura alcanza los 1600 C.

2. Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor en condiciones de cloración a alta temperatura.

3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.

4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sales y reactivos orgánicos.

Disco grabado de carburo de silicio (2)

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC

Propiedades de SiC-CVD

Estructura cristalina

Fase β de la FCC

Densidad

gramos/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamaño de grano

µm

2~10

Pureza química

%

99.99995

Capacidad calorífica

J·kg-1·K-1

640

Temperatura de sublimación

2700

Fuerza flexural

MPa (RT 4 puntos)

415

El módulo de Young

Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)

430

Expansión Térmica (CTE)

10-6K-1

4.5

Conductividad térmica

(W/mK)

300

Lugar de trabajo Semicera
Lugar de trabajo semicera 2
maquina de equipo
Procesamiento CNN, limpieza química, recubrimiento CVD
Nuestro servicio

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