Portador de oblea de epitaxia de SiC

Breve descripción:

El transportador de obleas de epitaxia de SiC de Semicera está diseñado para el proceso de epitaxia y es particularmente adecuado para transportar obleas de diferentes tamaños. Como uno de los componentes clave del equipo, este producto de semicera utiliza materiales susceptores de carburo de silicio de alto rendimiento, que pueden permanecer estables en ambientes de alta temperatura y alta presión. Ya sea en equipos de epitaxia o en campos como GaN Epi Wafer, el portador de obleas de epitaxia de SiC de semicera puede mejorar significativamente la eficiencia de la producción.


Detalle del producto

Etiquetas de producto

Oblea de epitaxia de SiCCarrier tiene una amplia gama de adaptabilidad. No sólo apoya la conversión flexible deoblea de 6 pulgadastransportista yoblea de 2 pulgadasportador, pero también se puede utilizar en una variedad de equipos de epitaxia, incluidos diferentes tipos de epitaxia, como la epitaxia LPE SiC. Además, el producto se puede utilizar con obleas portadoras de vidrio para garantizar una transmisión fluida y un procesamiento de alta precisión de las obleas, adecuadas para la fabricación de semiconductores de alta demanda.

SemicerasEpitaxia de SiCWafer Carrier utiliza un tratamiento de superficie de pintura de carburo de silicio, que mejora en gran medida la resistencia a la corrosión y a altas temperaturas, lo que lo hace superior en entornos complejos de procesos de epitaxia. Ya sea enOblea GaN Epiproducción u otros procesos de epitaxia, los productos de semicera pueden garantizar una carga perfecta de las obleas, minimizar el estrés y los defectos y mejorar la calidad del producto final.

Semicera se compromete a proporcionar soluciones de carga de obleas eficientes y confiables para la industria de semiconductores. Con su excelente rendimiento y diseño, elOblea de epitaxia de SiCCarrier es un componente indispensable en diversos procesos de epitaxia y brinda el mejor soporte para su equipo de epitaxia.

Portador de oblea de epitaxia de SiC
Portador de oblea GAN Epi caotado con SiC
Lugar de trabajo Semicera
Lugar de trabajo semicera 2
maquina de equipo
Procesamiento CNN, limpieza química, recubrimiento CVD
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