Portador de procesamiento PSS para transmisión de obleas semiconductoras

Breve descripción:

El portador de procesamiento PSS de Semicera para transmisión de obleas semiconductoras está diseñado para el manejo y transferencia eficiente de obleas semiconductoras durante los procesos de fabricación. Fabricado con materiales de alta calidad, este transportador garantiza una alineación precisa, una contaminación mínima y un transporte de obleas sin problemas. Diseñados para la industria de semiconductores, los portadores PSS de Semicera mejoran la eficiencia, la confiabilidad y el rendimiento del proceso, lo que los convierte en un componente esencial en las aplicaciones de procesamiento y manipulación de obleas.


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Descripción del Producto

Nuestra empresa brinda servicios de proceso de recubrimiento de SiC mediante el método CVD en la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos. formando una capa protectora SIC.

Características principales:

1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:

La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura alcanza los 1600 C.

2. Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor en condiciones de cloración a alta temperatura.

3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.

4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC

Propiedades de SiC-CVD

Estructura cristalina

Fase β de la FCC

Densidad

gramos/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamaño de grano

µm

2~10

Pureza química

%

99.99995

Capacidad calorífica

J·kg-1·K-1

640

Temperatura de sublimación

2700

Fuerza flexural

MPa (RT 4 puntos)

415

Módulo de Young

Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)

430

Expansión Térmica (CTE)

10-6K-1

4.5

Conductividad térmica

(W/mK)

300

Lugar de trabajo Semicera
Lugar de trabajo semicera 2
maquina de equipo
Procesamiento CNN, limpieza química, recubrimiento CVD
Nuestro servicio

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