Introducción al recubrimiento CVD TaC:
El recubrimiento CVD TaC es una tecnología que utiliza la deposición química de vapor para depositar un recubrimiento de carburo de tantalio (TaC) en la superficie de un sustrato. El carburo de tantalio es un material cerámico de alto rendimiento con excelentes propiedades mecánicas y químicas. El proceso CVD genera una película uniforme de TaC en la superficie del sustrato mediante una reacción de gas.
Características principales:
Excelente dureza y resistencia al desgaste.: El carburo de tantalio tiene una dureza extremadamente alta y el recubrimiento CVD TaC puede mejorar significativamente la resistencia al desgaste del sustrato. Esto hace que el recubrimiento sea ideal para aplicaciones en entornos de alto desgaste, como herramientas de corte y moldes.
Estabilidad a altas temperaturas: Los recubrimientos de TaC protegen componentes críticos de hornos y reactores a temperaturas de hasta 2200 °C, lo que demuestra una buena estabilidad. Mantiene la estabilidad química y mecánica en condiciones de temperatura extremas, lo que lo hace adecuado para procesamiento y aplicaciones a alta temperatura en entornos de alta temperatura.
Excelente estabilidad química: El carburo de tantalio tiene una fuerte resistencia a la corrosión contra la mayoría de los ácidos y álcalis, y el recubrimiento CVD TaC puede prevenir eficazmente daños al sustrato en ambientes corrosivos.
Alto punto de fusión: El carburo de tantalio tiene un alto punto de fusión (aproximadamente 3880 °C), lo que permite utilizar el recubrimiento CVD TaC en condiciones de temperaturas extremadamente altas sin derretirse ni degradarse.
Excelente conductividad térmica: El revestimiento TaC tiene una alta conductividad térmica, lo que ayuda a disipar eficazmente el calor en procesos de alta temperatura y evitar el sobrecalentamiento local.
Aplicaciones potenciales:
• Componentes del reactor CVD epitaxial de nitruro de galio (GaN) y carburo de silicio, incluidos portadores de obleas, antenas parabólicas, cabezales de ducha, techos y susceptores.
• Componentes de crecimiento de cristales de carburo de silicio, nitruro de galio y nitruro de aluminio (AlN), incluidos crisoles, portasemillas, anillos guía y filtros.
• Componentes industriales, incluidos elementos calefactores de resistencia, boquillas de inyección, anillos de enmascaramiento y plantillas de soldadura fuerte.
Características de la aplicación:
• Temperatura estable por encima de 2000°C, lo que permite el funcionamiento a temperaturas extremas
•Resistente al hidrógeno (Hz), amoníaco (NH3), monosilano (SiH4) y silicio (Si), proporcionando protección en entornos químicos hostiles.
• Su resistencia al choque térmico permite ciclos operativos más rápidos
• El grafito tiene una fuerte adhesión, lo que garantiza una larga vida útil y sin delaminación del recubrimiento.
• Pureza ultraalta para eliminar impurezas o contaminantes innecesarios
• Cobertura de recubrimiento conforme a tolerancias dimensionales estrictas
Especificaciones técnicas:
Preparación de recubrimientos densos de carburo de tantalio mediante CVD.:
Recubrimiento TAC con alta cristalinidad y excelente uniformidad:
Parámetros técnicos del RECUBRIMIENTO CVD TAC_Semicera:
Los anteriores son valores típicos..
